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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

項目游戏背景 该商家行业制作半导体材料用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟溶液浓度较高且部分有难度。已有除工院艺感觉不安稳,氟化物排放物不时超支。创业项目的投资2五百万元修建专做除理公用设施,方案除理程度500吨/天。 废污水材料及源 焦化废水主要的来自于制作设施设备进行维护清洁和工业废气洗衣机清洗: 氟化合物质量浓度:1500-3500mg/L 含硝酸钠根阴阳离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含少量钨、钼等金属制稀有元素 操作施工工艺具体流程 采取高氧浓度优点,选用"采和+三级积累+膜整理"工序: 废渣提取池:的分类提取区别密度废渣 结合影响池:分时期污泥脱水氢腐蚀钠和氢腐蚀钙,控住不可能pH至7.5-8. 斜管沉淀物中池发应池:加药PAC和PAM开展沉淀物中郊果 斜管析出池:极有效率固液剥离 多媒介过滤清洁器:我们要除体积小顆粒 反渗操作系统:宽度脱盐和除氟 生活污水浓缩液脱水处理过滤操作系统:离心力脱水处理过滤后生活污水建筑垃圾清运非常专业妥善处理 高清在线检测操作系统:即时实时视频氟铝离子含量和pH值 然后的效果 处里系统性行驶数值: 泡水氟正离子均衡质量浓度:2800mg/L 水流氟铁离子酸度:3.2mg/L(均) 氟避开率:99.9%以上的 水回收利用率:达到65% 操作系统系统自动数量高,保持污水进行处理投入下降30%,年再利用氟化钙副好产品约400吨。

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