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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制做厂坐落在华南我国,重点工作8厘米光电器件晶圆,每日废液污染物物量约800吨。因为工作操作过程中选用不少氢佛酸实现晶圆蚀刻,会导致废液中氟化物氧化还原电位可以达到200-300mg/L,远超我国污染物物标准(10mg/L以上)。 污废水 部分及源于 工业废水包括出于两个阶段: 晶圆蚀刻加工过程 :含高氧化还原电位氟化物(HF)、氰化钠及一少部分天价属 化学反应机器抛光剂(CMP)废水处理方法 :含納米级硅小粒、设计络合剂 设施设备清理生活污水 :含异丙醇、氯离子等巧妙物 操作加工程序 进行"化学反应沉定+水泥混凝土沉定+深入吸附"三級补救机系统: 四级正确处理 :加药氯化钙和氢防氧化钙,达成氟化钙沉淀出的,氟化物我们要除率达85% 二次元治理 :调用PAC(整合氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),弄掉溶液态的废水 三级分销治疗 :根据多物质全自动过滤器器和活性酶炭树脂吸附,喷水氟化物溶液浓度平稳在8mg/L下述 关健机 还有:pH重新可以调节系统的、斜管积淀池、板框压滤机厂家(飞灰甩干)。 从而特效 产品启用几年评估数据展示展示: 氟化物大概溶度:7.2mg/L(降到发展中国家规范标准) COD的还原率:92% 生活污水含水量率:≤65% 年环保再生能源回收氟化钙副好产品约150吨,保证 能源化通过

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